Welche Muster brauchen wir und wo können Raster unterlaufen werden? Wo liegen Unmöglichkeiten und Ordnungen? Welches sind die Grenzen und Überlappungen? Wie können wir den Raum begreifen und ergreifen, wenn wir von Papier, Drucktechnik und Farbwirkung ausgehen?
Vom 28. Mai bis 03. Juni präsentieren wir Ergebnisse aus dem Workshop „Muster und Freiheit“, erarbeitet mit den Gästen Lauren Alexander (www.foundland.info) und Niels Schrader (www.minddesign.info) mit ihrem Schwerpunkt „Political Patterns“ und unter Berücksichtigung persönlicher und politischer Ausgangspunkte und Ästhetiken. Produziert wurden die Arbeiten in verschiedenen Formaten mit dem Risographen, die Ergebnisse sind als einzelne Heftchen, als eigener Raum und als Sammlung in einer Bindung zu sehen.
Initiiert von Olivier Arcioli und Karin Lingnau, unterstützt von Matthias Conrady.
Mit Beiträgen von
Sujin Beak, Judith Bornmann, George Demir, Pauline Fabry, Leah-Lilith Heeren, Jelena Ilic, Eszter Jánka, Katherina Mayer, Anna Verena Müller, Eunjin Park, Michelle Park, Luisa Stricker, Luka Lara Charlotte Steffen, Qimeng Sun
Technische Unterstützung: Matthias Conrady